Metrologia òptica activa per a aplicaci...

Projecte

Investigador principal

Resum

L'òptica activa i adaptativa ha demostrat ia les seves capacitats en l'àmbit de la metrologia òptica, com a eina complementària que permet desenvolupar aplicacions i productes nous, en permetre una flexibilitat impossible amb sistemes òptics passius. En el present projecte es planteja ampliar la línia de treball ja existent en aquest sentit en el CD6 de la UPC per aprofundir en el desenvolupament de noves  aplicacions metrològiques. Si en un projecte anterior del Pla Nacional la combinació de metrologia i òptica activa es va aplicar amb èxit al desenvolupament de noves aplicacions relacionades amb el sensor Shack-Hartmann i la perfilometria confocal, aquest projecte es centra en aplicacions de perfilometria interferomètrica.

Per a això, es realitzarà una anàlisi de les tècniques de control dels elements actius per optimitzar el seu rendiment en aplicacions d'escala nanomètrica. Es modelitzar en detall el sistema complet de mesura, incloent ajustos del front d'ona mesurat i de l'element
compensador basats en B-splines, més enllà dels ajustos normalment utilitzats sobre bases de Zernike. S'analitzarà la implementació de tècniques de control local basades en aquests models que millorin la precisió i la velocitat de convergència dels bucles de control clàssics, tancats utilitzant control modal. S'ha d'assajar l'ús per a aquestes aplicacions d'un modulador de fase programable basat en tecnologia LCOS i de miralls deformables de membrana contínua. Aquest conjunt d'anàlisi ha de servir per determinar la configuració experimental més adequada i la manera òptima de tancar el bucle de control per a aplicacions d'escala nanomètrica. Aquesta part del projecte es desenvolupa en col.laboració amb el grup del professor Chris Dainty a la National University of Ireland at Galway.

Aquest procés de modelització i prova d'elements actius s'aplicarà al desenvolupament d'aplicacions de perfilometria interferomètrica de dispositius recoberts o encapsulats i de superfícies immerses en zones profundes de mitjans refractius. Es tracta d'una aplicació de
gran interès i actualitat per a la indústria microelectrònica o per al control de qualitat de discos òptics amb enregistrament de dades a diversos nivells o de sistemes encastats (embedded systems). Per a això es construirà i posarà en funcionament un sistema de perfilometria interferomètrica basat en un objectiu interferencial de configuració tipus Linnik amb augments de l'ordre de 50x i 100x, que inclourà un element òptic actiu que permeti la compensació de les aberracions induïdes pels mitjans refractius travessats .

Empreses col·laboradores

MINISTERIO DE CIENCIA E INNOVACIÓN (MICINN) [+info]